Услуги по обработке кристаллов и оптики

HGO выращивает кристаллы LiF на собственном предприятии по технологии Чохральского. Кристалл LiF или кристалл фторида лития представляет собой оптический материал с выдающимся коэффициентом пропускания в ВУФ-диапазоне. Он также используется для окон, призм и линз в видимом и инфракрасном диапазонах 0,104–7 мкм. Монокристалл LiF чувствителен к тепловому удару и будет подвергаться воздействию атмосферной влаги при температуре 400°C. При работе при высокой температуре 600°С кристалл LiF размягчается и становится малопластичным, поэтому его можно сгибать в радиусные пластины. Кроме того, при облучении образуются центры окраски. Следовательно, пользователи должны принимать меры для защиты кристаллов LiF от влаги и повреждения высокоэнергетическим излучением. Кроме того, LiF может раскалываться по плоскости (100) и реже по плоскости (110). Оптические характеристики хорошие, но структура не идеальна и расщепление затруднено.

HGO имеет передовые машины для нанесения покрытий, которые могут удовлетворить различные требования конечных пользователей. Мы можем нанести очень высокое пороговое покрытие, индуцированное лазером, с помощью методов покрытия IAD, EB и IBS, а также Cr-Au, алюминиевое и серебряное ментальное покрытие также могут быть доступны в HGO. Клиенты очень рады связаться с нами для получения дополнительной информации.

Кристалл Ti:Sapphire является наиболее широко используемым перестраиваемым твердотельным лазерным материалом, сочетающим в себе превосходные физические и оптические свойства с чрезвычайно широким диапазоном генерации. Его полоса генерации может поддерживать импульсы < 10 фс, что делает его оптимальным выбором для фемтосекундных генераторов и усилителей с синхронизацией мод. Полоса поглощения Ti:Sapphire сосредоточена на ~ 490 нм, поэтому его можно удобно накачивать различными лазерными источниками, такими как аргоновые ионные лазеры или лазеры Nd: YAG, Nd: YLF, Nd: YVO4 с удвоенной частотой на ~ 530 нм. Разработчики лазеров используют Ti:sapphire для генерации фемтосекундных импульсов для создания новых промышленных инструментов. Правильно доставленный фемтосекундный лазерный импульс взаимодействует с мишенью, оставляя окружающее пространство нетронутым. Недавно разработанные фемтосекундные импульсные лазеры создают микромеханические сложные тонкие структуры из стекла, металла и других материалов. Активные волноводы могут быть записаны под поверхностью, интегрируя оптические устройства в тело подложки. Дефекты фотошаблонов можно исправить, не нарушая соседние узоры. И теперь возможно достичь клеточного разрешения in vivo для медицинской диагностики с помощью фемтосекундных импульсных лазеров.

IPL-фильтр является ключевым оптическим элементом для аппарата IPL (интенсивный импульсный свет), который блокирует УФ-волну и пропускает полезную волну от 400 до 1200 нм для лазерного оборудования, такого как фотоомоложение, удаление волос, лечение сосудов и акне, омоложение кожи.

Окна и линзы из фторида кальция для УФ и ИК спектра. Окна CaF2, линзы CaF2 и клинья изготавливаются на заказ в соответствии со спецификациями заказчика. Окна CaF2 диаметром до 220 мм; клинья, призмы и зеркала из CaF2; Эксимерная оптика CaF2, рамановская оптика CaF2 и т. д.

Светоделитель Penta Prism путем добавления клина и частичного отражающего покрытия на одной из его наклонных поверхностей позволяет использовать Penta Prism в качестве светоделителя. Соотношение передачи/отражения (T/R) 50/50 или другое для светоделителя Penta Prism доступно по запросу.

ZnSe широко используется для ИК-компонентов, окон и линз, а также применяется для тепловизионных изображений, FLIR, медицинских систем и лазеров на углекислом газе. Окна из селенида цинка (ZnSe) идеально подходят для широкого спектра инфракрасных приложений, включая тепловидение, FLIR и медицинские системы.

Клиновая призма представляет собой оптический элемент с плосконаклонными поверхностями, обычно грани наклонены друг к другу под очень малыми углами. Он отклоняет свет к своей более толстой части. Клиновые призмы могут использоваться в качестве изолирующих компонентов. Клинья также могут использоваться для получения небольшого отклонения, которое не позволяет вернуться к источнику.