HGO выращивает лазерные кристаллы Nd: YLF с использованием технологии Чохральского. Кристалл Nd
3+
:YLF характеризуется длительным временем жизни неодимового энергетического уровня 4F3/2. По сравнению с Nd:YAG более низкая теплопроводность и слабое отрицательное значение dn/dT приводят к меньшим тепловым искажениям и позволяют достичь лучшего качества выходного луча. Еще одной отличительной особенностью является высокая УФ-прозрачность, что благоприятно для накачки ксеноновыми лампами-вспышками.