Широкополосные дихроичные зеркала с высоким коэффициентом отражения

ХГ Оптроникс., ИНК. может предоставить зеркало с металлическим покрытием, зеркало с диэлектрическим покрытием и дихроичное зеркало, которые изготовлены из подложки, такой как BK7, оптическое стекло, плавленый кварц, CaF2 и так далее.

ХГ Оптроникс., ИНК. может предоставить зеркало с металлическим покрытием, зеркало с диэлектрическим покрытием и дихроичное зеркало, которые изготовлены из подложки, такой как BK7, оптическое стекло, плавленый кварц, CaF2 и так далее.

HGO выращивает нелинейные кристаллы LBO с использованием технологии флюса. Кристаллы LBO представляют собой превосходный нелинейный кристалл. Для удвоения частоты (SHG), утроения (THG) лазеров Nd: YAG, Nd: YLF, Nd: YVO4 это один из наиболее полезных нелинейных оптических материалов в ультрафиолетовых и видимых лазерных приложениях.

HGO имеет передовые машины для нанесения покрытий, которые могут удовлетворить различные требования конечных пользователей. Мы можем нанести очень высокое пороговое покрытие, индуцированное лазером, с помощью методов покрытия IAD, EB и IBS, а также Cr-Au, алюминиевое и серебряное ментальное покрытие также могут быть доступны в HGO. Клиенты очень рады связаться с нами для получения дополнительной информации.

HGO выращивает лазерные кристаллы Ho: YLF с использованием технологии Чохральского. Ho:YLF является очень привлекательным лазерным материалом, поскольку время жизни верхнего лазерного уровня намного больше (~ 14 мс), чем в Ho:YAG, а сечения излучения выше. Кроме того, тепловая линза в Ho:YLF намного слабее, что помогает генерировать лучи с ограничением дифракции даже при интенсивной торцевой накачке. Основное преимущество прямой накачки Ho 5 I 7 состоит в том, что она не должна зависеть от переноса энергии, что приводит к различным радиационным и безызлучательным потерям. Устранены потери преобразования с повышением частоты, которые оказывают пагубное влияние на высокоэнергетические лазеры с модуляцией добротности.

Кристалл Ti:Sapphire является наиболее широко используемым перестраиваемым твердотельным лазерным материалом, сочетающим в себе превосходные физические и оптические свойства с чрезвычайно широким диапазоном генерации. Его полоса генерации может поддерживать импульсы < 10 фс, что делает его оптимальным выбором для фемтосекундных генераторов и усилителей с синхронизацией мод. Полоса поглощения Ti:Sapphire сосредоточена на ~ 490 нм, поэтому его можно удобно накачивать различными лазерными источниками, такими как аргоновые ионные лазеры или лазеры Nd: YAG, Nd: YLF, Nd: YVO4 с удвоенной частотой на ~ 530 нм. Разработчики лазеров используют Ti:sapphire для генерации фемтосекундных импульсов для создания новых промышленных инструментов. Правильно доставленный фемтосекундный лазерный импульс взаимодействует с мишенью, оставляя окружающее пространство нетронутым. Недавно разработанные фемтосекундные импульсные лазеры создают микромеханические сложные тонкие структуры из стекла, металла и других материалов. Активные волноводы могут быть записаны под поверхностью, интегрируя оптические устройства в тело подложки. Дефекты фотошаблонов можно исправить, не нарушая соседние узоры. И теперь возможно достичь клеточного разрешения in vivo для медицинской диагностики с помощью фемтосекундных импульсных лазеров.

Окно из плавленого кварца с низким тепловым расширением, обеспечивающее стабильность и устойчивость к тепловому удару при больших колебаниях температуры, широкий температурный рабочий диапазон и высокий порог повреждения лазером, является лучшим выбором для передачи от УФ до ИК.

HGO выращивает кристаллы LiF на собственном предприятии по технологии Чохральского. Кристалл LiF или кристалл фторида лития представляет собой оптический материал с выдающимся коэффициентом пропускания в ВУФ-диапазоне. Он также используется для окон, призм и линз в видимом и инфракрасном диапазонах 0,104–7 мкм. Монокристалл LiF чувствителен к тепловому удару и будет подвергаться воздействию атмосферной влаги при температуре 400°C. При работе при высокой температуре 600°С кристалл LiF размягчается и становится малопластичным, поэтому его можно сгибать в радиусные пластины. Кроме того, при облучении образуются центры окраски. Следовательно, пользователи должны принимать меры для защиты кристаллов LiF от влаги и повреждения высокоэнергетическим излучением. Кроме того, LiF может раскалываться по плоскости (100) и реже по плоскости (110). Оптические характеристики хорошие, но структура не идеальна и расщепление затруднено.