Защищенное золотое зеркало с металлическим покрытием

ХГ Оптроникс., ИНК. может предоставить зеркало с металлическим покрытием, зеркало с диэлектрическим покрытием и дихроичное зеркало, которые изготовлены из подложки, такой как BK7, оптическое стекло, плавленый кварц, CaF2 и так далее.

Дихроичное зеркало — это зеркало со значительно различающимися свойствами отражения или пропускания на двух разных длинах волн, оно характеризуется почти полным пропусканием света на одних длинах волн и почти полным отражением света на других длинах волн. Его можно широко использовать в приложениях лазерной технологии.

HGO выращивает лазерные кристаллы Nd: YLF с использованием технологии Чохральского. Кристалл Nd 3+ :YLF характеризуется длительным временем жизни неодимового энергетического уровня 4F3/2. По сравнению с Nd:YAG более низкая теплопроводность и слабое отрицательное значение dn/dT приводят к меньшим тепловым искажениям и позволяют достичь лучшего качества выходного луча. Еще одной отличительной особенностью является высокая УФ-прозрачность, что благоприятно для накачки ксеноновыми лампами-вспышками.

HGO выращивает лазерные кристаллы Pr: YLF с использованием технологии Чохральского. Pr3+:YLF был признан многообещающим лазерным материалом для непосредственного производства лазеров видимого диапазона и УФ-лазеров за счет внутрирезонаторной генерации второй гармоники. Очень немногие лазерные материалы обладают необходимыми свойствами для реализации генерации в видимом диапазоне спектра. Известно, что трехвалентный празеодим (Pr 3+ ) является интересным лазерным ионом для использования с твердотельными лазерами в видимом спектральном диапазоне из-за его схемы энергетических уровней, обеспечивающей несколько переходов в красном (640 нм, от 3P0 до 3F2), оранжевом (607 нм, 3P0 до 3H6), зеленая (523 нм, 3P0 до 3H5) и темно-красная (720 нм, 3P0 3F3+3F4) области спектра.

Оптический фильтр — это устройство, избирательно пропускающее свет различных длин волн, обычно реализуемое в виде плоских стеклянных устройств на оптическом пути, которые либо окрашены в массе, либо имеют интерференционные покрытия. Оптические свойства фильтров полностью описываются их частотной характеристикой, которая указывает, как фильтр изменяет амплитуду и фазу каждой частотной составляющей входящего сигнала.

HGO выращивает лазерные кристаллы Ho: YLF с использованием технологии Чохральского. Ho:YLF является очень привлекательным лазерным материалом, поскольку время жизни верхнего лазерного уровня намного больше (~ 14 мс), чем в Ho:YAG, а сечения излучения выше. Кроме того, тепловая линза в Ho:YLF намного слабее, что помогает генерировать лучи с ограничением дифракции даже при интенсивной торцевой накачке. Основное преимущество прямой накачки Ho 5 I 7 состоит в том, что она не должна зависеть от переноса энергии, что приводит к различным радиационным и безызлучательным потерям. Устранены потери преобразования с повышением частоты, которые оказывают пагубное влияние на высокоэнергетические лазеры с модуляцией добротности.

HGO выращивает кристаллы LiF на собственном предприятии по технологии Чохральского. Кристалл LiF или кристалл фторида лития представляет собой оптический материал с выдающимся коэффициентом пропускания в ВУФ-диапазоне. Он также используется для окон, призм и линз в видимом и инфракрасном диапазонах 0,104–7 мкм. Монокристалл LiF чувствителен к тепловому удару и будет подвергаться воздействию атмосферной влаги при температуре 400°C. При работе при высокой температуре 600°С кристалл LiF размягчается и становится малопластичным, поэтому его можно сгибать в радиусные пластины. Кроме того, при облучении образуются центры окраски. Следовательно, пользователи должны принимать меры для защиты кристаллов LiF от влаги и повреждения высокоэнергетическим излучением. Кроме того, LiF может раскалываться по плоскости (100) и реже по плоскости (110). Оптические характеристики хорошие, но структура не идеальна и расщепление затруднено.

Окно состоит из двух относительно параллельных поверхностей. Оно используется для разделения двух физических сред, тем самым пропуская лучи. Он широко используется в проекционной системе, системе визуализации и оптической измерительной системе.