Оптические купола

HGO выращивает кристаллы LiF на собственном предприятии по технологии Чохральского. Кристалл LiF или кристалл фторида лития представляет собой оптический материал с выдающимся коэффициентом пропускания в ВУФ-диапазоне. Он также используется для окон, призм и линз в видимом и инфракрасном диапазонах 0,104–7 мкм. Монокристалл LiF чувствителен к тепловому удару и будет подвергаться воздействию атмосферной влаги при температуре 400°C. При работе при высокой температуре 600°С кристалл LiF размягчается и становится малопластичным, поэтому его можно сгибать в радиусные пластины. Кроме того, при облучении образуются центры окраски. Следовательно, пользователи должны принимать меры для защиты кристаллов LiF от влаги и повреждения высокоэнергетическим излучением. Кроме того, LiF может раскалываться по плоскости (100) и реже по плоскости (110). Оптические характеристики хорошие, но структура не идеальна и расщепление затруднено.

HGO выращивает лазерные кристаллы Ho: YLF с использованием технологии Чохральского. Ho:YLF является очень привлекательным лазерным материалом, поскольку время жизни верхнего лазерного уровня намного больше (~ 14 мс), чем в Ho:YAG, а сечения излучения выше. Кроме того, тепловая линза в Ho:YLF намного слабее, что помогает генерировать лучи с ограничением дифракции даже при интенсивной торцевой накачке. Основное преимущество прямой накачки Ho 5 I 7 состоит в том, что она не должна зависеть от переноса энергии, что приводит к различным радиационным и безызлучательным потерям. Устранены потери преобразования с повышением частоты, которые оказывают пагубное влияние на высокоэнергетические лазеры с модуляцией добротности.

Поляризационные светоделительные кубы состоят из двух склеенных прямоугольных призм, гипотенуза одной призмы покрыта поляризационным диэлектрическим покрытием. При использовании с обычным падающим неполяризованным светом падающий луч разделяется на два поляризованных луча, p-поляризованный компонент проходит прямо через него, s-поляризованный компонент отражается под углом 90 градусов.

IPL-фильтр является ключевым оптическим элементом для аппарата IPL (интенсивный импульсный свет), который блокирует УФ-волну и пропускает полезную волну от 400 до 1200 нм для лазерного оборудования, такого как фотоомоложение, удаление волос, лечение сосудов и акне, омоложение кожи.

Фильтр нейтральной плотности позволяет фотографу очень легко контролировать экспозицию изображения. Фильтр предотвращает попадание света на датчик камеры, что позволяет нам оставить камеру с более высокой апертурой на более длительное время. Фильтр нейтральной плотности HG OPTRONICS — это фильтр, который уменьшает или изменяет интенсивность света всех длин волн или цветов в равной степени, не вызывая изменения оттенка цветопередачи.

Наши светоделительные пластины могут использоваться в лазерных системах высокой мощности. При использовании светоделительных пластин важно помнить, что два парциальных луча проходят по разным оптическим путям. Оптические пути зависят от угла падения и толщины пластин.

ХГ Оптроникс., ИНК. может предоставить зеркало с металлическим покрытием, зеркало с диэлектрическим покрытием и дихроичное зеркало, которые изготовлены из подложки, такой как BK7, оптическое стекло, плавленый кварц, CaF2 и так далее.

Nd:GdVO4 — многообещающий материал для лазеров с диодной накачкой. Подобно более известному кристаллу Nd:YVO4, кристалл Nd:GdVO4 также демонстрирует высокое усиление, низкий порог и высокие коэффициенты поглощения на длинах волн накачки. Nd:GdVO4 имеет дополнительное преимущество перед Nd:YVO4, заключающееся в более высокой теплопроводности. Для непрерывной генерации на 1,06 мкм и 1,34 мкм и внутрирезонаторного удвоения с KTP и LBO ванадат гадолиния обеспечивает более высокую эффективность наклона или оптическое преобразование, чем Nd:YVO4.