Волновая пластина

HGO выращивает кристаллы LiF на собственном предприятии по технологии Чохральского. Кристалл LiF или кристалл фторида лития представляет собой оптический материал с выдающимся коэффициентом пропускания в ВУФ-диапазоне. Он также используется для окон, призм и линз в видимом и инфракрасном диапазонах 0,104–7 мкм. Монокристалл LiF чувствителен к тепловому удару и будет подвергаться воздействию атмосферной влаги при температуре 400°C. При работе при высокой температуре 600°С кристалл LiF размягчается и становится малопластичным, поэтому его можно сгибать в радиусные пластины. Кроме того, при облучении образуются центры окраски. Следовательно, пользователи должны принимать меры для защиты кристаллов LiF от влаги и повреждения высокоэнергетическим излучением. Кроме того, LiF может раскалываться по плоскости (100) и реже по плоскости (110). Оптические характеристики хорошие, но структура не идеальна и расщепление затруднено.

Фосфатное стекло, легированное Er 3+ , Yb 3+ , является хорошо известной и широко используемой активной средой для лазеров, излучающих в «безопасном для глаз» спектральном диапазоне 1,5-1,6 мкм. В качестве лазера с длиной волны, безопасной для глаз, лазеры на фосфатном стекле с сопутствующим легированием Er3+/Yb3+ с длиной волны 1540 мкм привлекли большое внимание своей компактностью и низкой стоимостью. -сейф и окно оптоволоконной связи. Лазеры с длиной волны 1540 нм используются в дальномерах, радарах, распознавании целей. Фосфатное стекло, легированное Er3+/Yb3+, взаимодействует с пассивным кристаллом Q-Switch, коспинель может получить импульсный твердотельный лазер 1540 нм.

HGO имеет передовые машины для нанесения покрытий, которые могут удовлетворить различные требования конечных пользователей. Мы можем нанести очень высокое пороговое покрытие, индуцированное лазером, с помощью методов покрытия IAD, EB и IBS, а также Cr-Au, алюминиевое и серебряное ментальное покрытие также могут быть доступны в HGO. Клиенты очень рады связаться с нами для получения дополнительной информации.

HGO выращивает нелинейные кристаллы LBO с использованием технологии флюса. Кристаллы LBO представляют собой превосходный нелинейный кристалл. Для удвоения частоты (SHG), утроения (THG) лазеров Nd: YAG, Nd: YLF, Nd: YVO4 это один из наиболее полезных нелинейных оптических материалов в ультрафиолетовых и видимых лазерных приложениях.

Кристалл Ti:Sapphire является наиболее широко используемым перестраиваемым твердотельным лазерным материалом, сочетающим в себе превосходные физические и оптические свойства с чрезвычайно широким диапазоном генерации. Его полоса генерации может поддерживать импульсы < 10 фс, что делает его оптимальным выбором для фемтосекундных генераторов и усилителей с синхронизацией мод. Полоса поглощения Ti:Sapphire сосредоточена на ~ 490 нм, поэтому его можно удобно накачивать различными лазерными источниками, такими как аргоновые ионные лазеры или лазеры Nd: YAG, Nd: YLF, Nd: YVO4 с удвоенной частотой на ~ 530 нм. Разработчики лазеров используют Ti:sapphire для генерации фемтосекундных импульсов для создания новых промышленных инструментов. Правильно доставленный фемтосекундный лазерный импульс взаимодействует с мишенью, оставляя окружающее пространство нетронутым. Недавно разработанные фемтосекундные импульсные лазеры создают микромеханические сложные тонкие структуры из стекла, металла и других материалов. Активные волноводы могут быть записаны под поверхностью, интегрируя оптические устройства в тело подложки. Дефекты фотошаблонов можно исправить, не нарушая соседние узоры. И теперь возможно достичь клеточного разрешения in vivo для медицинской диагностики с помощью фемтосекундных импульсных лазеров.

Кристалл Cr 4+ :YAG (Y 3 Al 5 O 12 ) идеально подходит для пассивной модуляции добротности Nd:YAG и других лазерных кристаллов, легированных Nd 3+ или Yb 3+ , в диапазоне длин волн от 900 до 1200 нм. Пассивные модуляторы добротности или насыщающиеся поглотители обеспечивают лазерные импульсы высокой мощности без электрооптических модуляторов добротности, тем самым уменьшая размер корпуса и исключая источник питания высокого напряжения. Замечательной особенностью Cr 4+ :YAG является высокий порог повреждения >10 Дж/см2 при 1064 нм, 10 нс. Его полоса поглощения простирается от 900 нм до 1200 нм и достигает пика около 1060 нм с очень большим поперечным сечением поглощения.

LiNbO3 широко используется в качестве электрооптических модуляторов и модуляторов добротности для Nd:YAG, Nd:YLF и Ti:Sapphire лазеров, а также в качестве модуляторов для волоконной оптики.

HGO выращивает лазерные кристаллы Nd: YLF с использованием технологии Чохральского. Кристалл Nd 3+ :YLF характеризуется длительным временем жизни неодимового энергетического уровня 4F3/2. По сравнению с Nd:YAG более низкая теплопроводность и слабое отрицательное значение dn/dT приводят к меньшим тепловым искажениям и позволяют достичь лучшего качества выходного луча. Еще одной отличительной особенностью является высокая УФ-прозрачность, что благоприятно для накачки ксеноновыми лампами-вспышками.